矽光子專利大戰延燒　光焱駁斥汎銓「以舊打新」

半導體檢測大廠汎銓（6830）於25日表示，光焱科技（7728）涉及侵犯汎銓公司「光損偵測裝置」專利相關之設備及技術方案，已向智慧財產及商業法院提起訴訟，今日光焱駁斥汎銓專利專利侵權指控。

針對汎銓科技（6830）於公開資訊觀測站及記者會上，單方面宣稱光焱科技（7728）侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並獅子大開口求償一事。光焱科技今日嚴正駁斥，表示截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。光焱科技對於同業在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊，阻礙產業創新之行為深感遺憾，並對此類之競爭手段予以嚴正譴責。

光焱科技指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差。汎銓所宣稱之專利，係採用傳統「金相顯微鏡」組成之方案進行光損量測；而光焱科技則是基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，可高度整合於客戶端之系統（如探針台、電測機）上，直接進行矽光子光學檢測。其中，光損檢測僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。光焱科技強調：「拿之前的金相顯微鏡專利，來告我們新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」