隨著AI晶片需求呈現爆發式增長,半導體材料整合服務大廠崇越科技大啖商機。崇越科技董事長潘重良在法說會上直言,現在不只是2奈米等先進製程產能積極推進,連帶先進封裝相關材料的需求也迎來大爆發。
潘重良指出,由於AI晶片封裝尺寸持續擴張,帶動單一晶片對底部填充膠(Underfill)的使用量顯著提升,目前國內外封測大廠,正積極透過擴廠來滿足AI先進封裝的產能缺口,這也讓材料端的拉貨動能呈現強勁成長。
針對HBM堆疊與高階封裝製程,潘重良特別強調了信越化學所提供的MUF材料,該產品目前極具競爭力,極有機會成功獲得美國記憶體大廠採用,主要用於晶片堆疊後的保護製程。而針對高效能運算(HPC)晶片最棘手的散熱問題,崇越除了市佔率極高的熱界面材料(TIM)持續成長外,更與日本FINECS合作研發Micro Pins微流道技術,透過液體散熱設計來應對AI晶片的高功耗挑戰。
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