光進銅退趨勢加速　崇越攜手SCIVAX搶攻CPO光學元件量產

崇越科技（5434）將於9月4日上午11點將在SEMICON Taiwan的TechXPOT舞台進行「迎接光進銅退時代：奈米壓印在光通訊和CPO的關鍵應用」技術發表。

隨著生成式AI與全球高速運算基礎設施的蓬勃發展，資料中心對能量效率與頻寬密度的要求大幅攀升，傳輸能耗劇增已成為高速晶片發展面臨的巨大瓶頸。半導體及光電關鍵材料整合服務領導者─崇越科技（5434）精準掌握「光進銅退」的產業趨勢，攜手日本奈米壓印技術（Nanoimprint Lithography, NIL）領航者SCIVAX，全力搶攻高頻寬、低能耗的「共封裝光學技術」（Co-Packaged Optics, CPO）關鍵商機。

相較於傳統的可插拔式光學模組，CPO 架構因具備更短的電性傳輸路徑、更低的功耗、更高的頻寬密度以及更佳的散熱效率，被視為克服傳輸能耗瓶頸的典範轉移技術。9 月 4 日上午 11 點，崇越科技在 SEMICON Taiwan 的 TechXPOT 舞台進行「迎接光進銅退時代：奈米壓印在光通訊和CPO的關鍵應用」技術發表，向全球客戶展示從光學模擬設計到高精度晶圓級壓印量產的一站式解決方案。