財經中心/廖珪如報導
隨AI需求持續強勁,先進製程與高階材料升級趨勢明確,法人指出,2026至2027年在台積電(2330)N2製程進入量產爬坡、N3新產能持續開出帶動下,特用化學品需求將同步提升,推升相關供應鏈營運成長。法人分析,先進製程對材料純度與製程要求持續提高,帶動特用化學品用量增加,同時隨高階銅箔基板(CCL)持續升級,應用於M7至M9等級的樹脂材料需求亦明顯成長,為化學材料廠帶來新一波成長動能。
在個別公司方面,先進封裝領域中,三福化(4755)受惠CoWoS專用光阻剝離劑(stripper)已量產出貨,並持續拓展顯影劑回收純化業務;南寶(4766)則透過整合新廠技術,將工業膠材應用延伸至半導體先進封裝用UV解黏膠。
半導體材料方面,晶呈科技(4768)聚焦特殊氣體與材料供應,並切入CPO(共封裝光學)應用;台特化(4772)則專攻半導體氣體(如矽乙烷),受惠先進製程擴產,並強化清洗與塗佈相關服務。
在高階PCB材料領域,雙鍵(4764)專注光阻材料,切入高階通訊用CCL供應鏈;達興材料(5234)則開發高階載板用功能性添加劑與關鍵材料,並與產業龍頭合作推進應用。此外,上品(4770)作為氟素樹脂廠務系統核心供應商,隨半導體廠擴產帶動需求成長,並延伸至高潔淨子系統解決方案。法人認為,在AI帶動先進製程與高階材料需求同步提升下,特用化學品供應鏈將成為半導體升級浪潮中的重要受惠族群,後續營運動能值得關注。
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