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現主時最夯散熱晶片 這大廠獲肯定

發佈時間2026.09.06 12:00 臺北時間

更新時間2026.09.06 14:00 臺北時間

工研院攜手一詮精密,於2026 SEMICON TAIWAN宣佈成立國內首家AI晶片散熱設計新創公司「惠智先進」。此合作結合工研院的前瞻研發能量與一詮精密的量產實力,專注於微流道冷板等高階液冷散熱技術。雙方將從晶片封裝至機櫃基礎設施進行系統化熱管理設計,目標搶攻2030年達192億美元的全球液冷散熱市場。惠智先進將提供設計授權與試量產驗證等核心服務,並計畫將業務拓展至浸沒式冷卻、共同封裝光學模組散熱等前瞻領域。此舉不僅強化台灣AI伺服器散熱供應鏈實力,更促使台廠從散熱元件供應大國,成功轉型為高階系統解決方案的國際出口者,提升整體產業競爭力。

 

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攜手一詮精密(2486)成立國內首家AI晶片散熱設計新創公司惠智先進,並舉行技術移轉暨合作簽約儀式。未來惠智先進將負責微流道冷板等高階散熱技術設計與試量產驗證,一詮精密發揮製程整合與量產優勢,組隊爭取2030年可達192億美元的全球液冷散熱市場,可望帶動國內精密金屬加工業轉型升級,強化台廠熱管理供應鏈實力。圖/AI製圖)

工研院3日在2026 SEMICON TAIWAN宣布,攜手一詮精密(2486)成立國內首家AI晶片散熱設計新創公司惠智先進,並舉行技術移轉暨合作簽約儀式。未來惠智先進將負責微流道冷板等高階散熱技術設計與試量產驗證,一詮精密發揮製程整合與量產優勢,組隊爭取2030年可達192億美元的全球液冷散熱市場,可望帶動國內精密金屬加工業轉型升級,強化台廠熱管理供應鏈實力。經濟部產業技術司表示,全球AI晶片與高效能運算市場需求強勁,當高階晶片功耗動輒千瓦以上,機櫃極高熱能將直接影響算力表現,散熱成為迫切挑戰。技術司長期透過科技專案推動先進散熱技術研發,陸續研發出晶片散熱性能達千瓦等級以上的蒸汽腔均溫蓋板、雙相浸沒式冷卻系統與微流道蓋板液冷技術,部分更已打入美國晶片大廠供應鏈。

現在運用台灣製造優勢,在千瓦級冷板式液冷元件科技專案成果基礎上成立惠智先進,期盼加強國內設計創新能量,逐步打造完整的AI伺服器散熱供應鏈生態系,促使台灣從散熱元件供應大國轉型為高階系統解決方案出口者。工研院電子與光電系統研究所所長張世杰表示,工研院長期投入高階散熱技術開發,逐步累積從封裝熱設計、液冷冷板到雙相浸沒式冷卻等關鍵技術能量。未來將與惠智先進持續展開三項重要合作,首先在研發方面,將投入下世代高階散熱技術,包括更高功率密度的熱管理設計、新型微流道冷板與浸沒式冷卻架構,並透過惠智先進將研發成果加快商品化與導入客戶。其次在合作模式上,將與惠智先進共同服務重要客戶,從前期規格討論、熱設計驗證到系統整合攜手服務,深耕資料中心、AI伺服器及高階工業電腦等應用市場。

最後在產業鏈結方面,藉由雙方共同合作能第一線掌握客戶痛點與產品規格趨勢,使後續研發與專利布局更加精準,進而帶動台灣高階散熱供應鏈持續成長茁壯。惠智先進兼一詮精密董事長周萬順表示,隨著新一代AI伺服器平台陸續導入液冷,散熱已不再只是伺服器末端的零組件選擇,而是從晶片封裝、冷板設計、流體模組到機櫃與資料中心基礎設施,都必須同步規劃的系統工程。因此熱管理設計必須更早介入產品開發,以兼顧散熱效能、可靠度、可製造性及客戶導入時程。一詮精密四年前即攜手工研院電光所散熱團隊投入千瓦級蒸汽腔均溫蓋板等前瞻技術研發,由工研院負責設計與技術開發,一詮則投入製程驗證與量產實現,雙方持續克服複雜結構及製程整合挑戰。此次成立惠智先進將串聯研發、設計驗證與製造能量,加速技術由實驗室走向客戶產品。

不僅如此,成立惠智先進更能大幅提升台灣高階散熱供應鏈的系統整合與國際服務能力。工研院表示,與一詮精密合作其實已逾二十年,近年共同投入AI液冷技術開發,此次成立國內首家AI散熱設計新創公司,將結合工研院前瞻研發能量與一詮精密的製造優勢。雙方共同打造的惠智先進將以設計與智慧財產權服務為利基,未來將全面聚焦研究委託、設計授權、試量產打樣以及設計量產授權等四項核心業務。在營運規劃上,公司初期會以微流道冷板技術為主軸,同時精準對準通用型圖形處理器與專用型特殊應用晶片之散熱需求,並計畫在穩健獲利後,逐步將營運觸角進一步拓展至浸沒式冷卻、共同封裝光學模組散熱、高能雷射冷卻、機器人散熱以及高階封測散熱平台等深具爆發潛力的前瞻領域。

 

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