全球首富馬斯克（Elon Musk）旗下特斯拉（Tesla）與SpaceX近日連袂宣布，將在德州打造全球最大晶圓廠「Terafab」，並在首期投入168億美元（約5422億台幣）。除了堪比15座五角大廈的園區規模讓人瞠目結舌，據港媒《風火時報》報導，官方X平台所公布的概念渲染圖，當中所描繪的長條狀巨型廠房，加以中央的圓形結構，更讓網友直呼「裡面藏了粒子加速器」、馬斯克準備採取「自由電子雷射」 （Free Electron Laser, FEL）光刻機。馬斯克對此也親自回復，留下「FELFTW」六字。
網友瞬間炸鍋，稱「FELFTW」即指「自由電子雷射贏定了」（Free Electron Laser For The Win），也有人擔心：「這是否意味著ASML要完蛋了？」外界所以如此聯想，是FEL有望提供另一種EUV光源方案。現行ASML設備採用「雷射產生等離子體」（LPP）技術，以高功率雷射轟擊錫滴，使其形成高溫等離子體，產生13.5奈米極紫外光；FEL則把自由電子加速至接近光速，再讓電子束穿過特殊磁場產生雷射光。由於電子能量與磁場都能調整，FEL具備改變光源波長的彈性，也可搭配大型粒子加速器集中產生光源，理論上供應同一座晶圓廠內多台光刻設備。
ASML現行EUV系統已投入量產多年，支撐7奈米、5奈米、3奈米等先進製程。8月5日，台積電在社群平台發布美國亞利桑那廠影片，展示ASML EUV光刻機進行下一代晶片製程。不過，LPP光源仍有功率提升不易、錫滴產生的碎屑可能污染精密光學元件等問題，每台EUV光刻機還都需要配置獨立光源。FEL不使用錫滴，若大型中央加速器真的能穩定供應多台設備，光源配置模式也可能跟著改變。這條路線過去並非沒有人研究，只是大型加速器的體積、建置成本與維護難度始終是問題，ASML早年也曾評估利用加速器產生EUV，最後仍選擇錫滴等離子體方案。
不過，Terafab是超大型晶圓廠，空間足夠容納大型粒子加速器，能夠有效發揮FEL的優勢。報導回顧馬斯克年初接受節目訪問：「我覺得現在這些先進晶圓廠把無塵室搞錯了。我敢打賭，特斯拉會有一座2奈米的工廠，而且我能在裡面一邊吃芝士漢堡、一邊抽雪茄。」這番看似玩笑的話，如今再搭配他留下的「FEL FTW」，卻能看出相同思路：不把產業現有做法視為理所當然，而是從最底層的物理與製程重新思考。無塵室可以重做，EUV光源也可以換一條路，從光子進入到晶片產出，馬斯克想挑戰的，正是整套流程能不能重新設計。
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